页面ID:114930更新日期:2024年4月25日
从这里开始就是正文。
X射线光电子分光分析装置(XPS)
在向样品照射X射线时,通过测定从表面到数nm的最表面产生的光电子能量,来分析样品表面存在的元素和其结合状态的装置。通过Ar离子蚀刻每次削样品表面,可以分析深度方向。
可以用于表面变色、超薄膜的分析、功能性多层薄膜的深度方向分析等。
本装置是通过“2023年度地方创生推进交付金”导入的。
机种名
热身费希尔科学股份有限公司
Nexsa G2
规格
| X射线源 | AI单色列表 |
| X射线照射径 | 10μm~400μm(步骤5μm步) |
| 光电子取入方向 | 对水平配置的样品垂直 |
| 最大样品尺寸 | 测量面60×60mm,厚度20mm |
| 角度分解XPS | 最大可倾斜到90° |
| 蚀刻方式 | Ar离子(单原子/集群可切换) |
| 中和机构 | 低能电子和低能Ar离子同时同轴照射 |
设备使用费
9,960日元/1小时
委托考试手续费
19,330日元/1件
9,960日元/1小时(线・面・深度方向分析)
担当
甲府技术支援中心
材料燃料电池技术部工业材料科
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